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    鈣鈦礦電池激光刻蝕、劃線設備

    鈣鈦礦電池激光刻蝕、劃線系統

    導電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等鈣鈦礦電池材料激光刻蝕劃線處理

    客戶服務熱線

    135-4505-0045

    郵 箱:wf@whlasers.com

    傳 真:027-63496399

    產品介紹 樣品展示 加工視頻 免費打樣

    可根據需求將整個加工部分置入手套箱內加工


    根據不同場景的需求,配置納秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)波段光源;皮秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)、紫外(355nm)波段光源;飛秒脈寬的紅外光纖(1030nm)、綠光(515nm)波段光源進行微精細激光刻蝕、劃線、構造去除、劃片、表面剝離等應用。

     

    適用于柔性PET/PI/PEN/玻璃等基底材料上的鈣鈦礦太陽能電池激光刻蝕劃線應用。

     

    玻璃、PET、PI、PNT等基底上薄膜材料激光刻蝕,應用于觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃等行業。

     

    適用于導電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等材料處理。特別是針對鈣鈦礦電池領域的陰電極、鈣鈦礦空穴傳輸層、阻擋層、鈣鈦礦層、陽電極激光刻蝕劃線技術上有獨到的技術優勢。

     

    采用自主研發的控制軟件、直接導入CAD 數據CCD相機定位自動激光刻蝕,操作簡單,方便快捷;采用通過軟件實時調節振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計,加上真空吸附托盤裝置,能有效地解決激光刻蝕加工運行中的平穩性。


    設備集數控技術、激光技術、軟件技術等光機電高技術于一體,具有高靈活性、高精度、高速度等先進制造技術的特征??纱蠓秶鷥冗M行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,并且能夠保證很高的產能,是一個可靠、穩定和具有高性能價格比的產品。

     

    主要構成:激光器、光路系統、運動控制系統、電控制系統、定位系統、抽塵系統、真吸附空系統、大理石龍門結構、鈑金結構件等。


     

    型號

    納秒綠光ET200MG

    皮秒綠光

    ET300MGPS

    皮秒紫外

    ET300UV-PS

    飛秒紅外

    ET300IR-FS

    飛秒綠光

    ET300MG-FS

    實驗室刻蝕機

    ET100IR/ET100MG

    激光器

    532nm

    532nm

    355nm

    1030nm

    515nm

    1064/532nm

    功率

    5/10W

    10/15/30W

    10/15/30W

    20/30/40W

    10W

    20W/5W

    加工尺寸

    100*100/200*200/300*300/400*300/600*600/600*900/700*1400mm可選

    可定制加工幅面

    110*110mm可選

    激光器頻率

    30-150KHz

    1-1000KHz

    1-1000KHz

    25-5000KHz

    25-5000KHz

    1-2000KHz/

    30-100khz

    振鏡

    10/14mm通光孔徑

    10mm通光孔徑

    聚焦鏡

    40*40/70*70/110*110mm幅面(根據不同的應用場景選擇)

    100-140mm可選

    擴束鏡

    4X

    2-8X可調

    1.5X

    聚焦光斑

    30μm

    10μm

    50μm

    最小線寬

    30μm

    10μm

    50μm

    最大可根據需要可全部去除鍍層材料,如P4清邊處理  

    最小線間距

    30μm

    10μm

    50μm

    熱影響區

    5μm

    3μm


    直線度

    ±10μm

    ±5μm(最小可至±1μm

    ±20μm

    Z軸電機行程

    50mm(自動軟件控制)

    手動500mm

    工作臺定位精度

    ±3μm

    ±20μm

    工作臺重復精度

    ±1μm

    ±20μm

    CCD相機定位精度

    ±3μm

    ±10μm

    刻蝕速度

    最大刻蝕速度4000mm/s(單線)

    設備尺寸/重量

    1200*1200*1700mm300*00mm幅面內) 1000Kg 納秒                大尺寸及雙光路

    1280*1400*1750mm300*300mm幅面內) 1800Kg  皮秒/飛秒          電話聯系

    1800*1800*1750mm600*600mm幅面內) 2500kg皮秒/飛秒 

    1050*700*1660mmL*W*H 300Kg

    設備功耗

    2500W

    3000W

    1500W

    設備文件格式

    標準CAD DXF文件

    DXF/PLT/JPG

    備注:量產后一般采用多種波段激光配合使用,非單臺機器完成所有膜層制作。


    溫馨提示:我公司提供“樣品免費加工”服務,您只需提交以下信息,我們會有專人與您聯系。您也可以直接來電垂詢。服務熱線:135-4505-0045。

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    地址:武漢市東湖技術開發區黃龍山北路6號

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